索尔维半导体“全明星”就位第二弹!“蚀刻双子星”全记录
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作为最流行的蚀刻工艺之一,湿法蚀刻具有成本低、量产高、选择比高等优点

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湿法蚀刻利用化学溶液溶解晶圆表面的材料,达到制作器件和电路的要求。OEM正不断通过生产更精确、更高纯度的半导体器件,来克服湿法蚀刻中的各项异性差、颗粒和工艺控制不足等问题。

作为索尔维的半导体明星组合的重磅成员之一,“湿法子”身怀多项“绝技”,为湿法蚀刻优化和增加了许多关键组件,包括化学品输送系统、结构部件、O型圈和密封件、UPW管道系统和晶圆容器。

“湿法子”的王牌“大招”更是融合了耐化学性、抗疲劳性和阻燃性等优势,打出一套漂亮的“组合拳”,为半导体制造流程提供更多附加值,让半导体组件的清洁更高效、便捷。

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1

化学品输送系统材料

索尔维Halar® ECTFESolef® PVDF在很大程度上改进了湿法蚀刻中的化学输送系统,保持了管道和系统的洁净度。

2

结构件材料

索尔维Halar® ECTFE具有耐化学性和热稳定性,可满足任何湿法加工设备对高纯度条件的需求。

3

O形圈和密封件

索尔维Tecnoflon® 氟橡胶(FKM)全氟橡胶(FFKM)能够增强O型圈和密封件的制造,使其具备特有的特性组合以确保最佳性能。

4

UPW管道系统材料

索尔维Solef® PVDFKetaSpire® PEEK具有超高纯度,并符合UPW严格的半导体污染规范,同时满足长期的性能要求。

5

晶圆容器材料

索尔维KetaSpire® PEEK兼具耐高温和耐化学性。

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Halar® ECTFE

(乙烯-氯三氟乙烯)

Halar® ECTFE结合了优良的耐化学性耐受温度范围广(符合FM4910防火安全标准),出色的耐磨性和良好的抗冲击性等性能,能够抵御各种化学品和溶剂的侵蚀,同时适用于制造化学接触区和非化学接触区的结构件。

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Tecnoflon® FKM(氟橡胶) &

 PFR FFKM(全氟橡胶)

Tecnoflon® FKM & PFR FFKM具有高纯度低金属含量使用寿命长等特性,耐受温度高达340℃,常被用于在集成电路制造过程中的各种关键密封应用中。

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干法蚀刻是指通过将材料暴露于离子轰击(通常是反应气体的等离子体)来去除材料

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为了稳定地运转干法蚀刻的设备,半导体工厂需要优异的冷却剂和润滑油。同时,清洁度在干法蚀刻中也非常重要——加工后清洁度越高,越有利于提高器件的成品率。因此工艺中使用的蚀刻工具材料也需要具备出色的耐化学性和耐热性。

作为“湿法子”的“孪生手足”,“干法子”的天赋和大招性能也不遑多让。“干法子”赋予了干法蚀刻工具和工艺材料许多的关键特性,以实现高效的半导体制造。

“干法子”可以承受温度波动下的腐蚀性化学和等离子环境,并利用自身独特的特性广泛“活跃”于增强真空泵、冷却器、化学品运输、密封件和蚀刻环等组件的“岗位”上,充分施展各种性能优势。

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1

流体和润滑剂材料

半导体制造和干法蚀刻中使用的流体和润滑剂必须具有耐高温耐化学性,才能承受这些工艺的苛刻条件。

索尔维的Fomblin® PFPE润滑剂为干法蚀刻过程中使用的真空泵提供了卓越的解决方案。同时,索尔维的导热液Galden® PFPE有多种等级可供选择,是半导体冷却器的理想选择。

2

干法蚀刻工具材料

干法蚀刻工具制造商不断寻求具有抗等离子体出色的机械、化学和结构能力以及独特的设计灵活性和可加工性的材料解决方案。

索尔维的Tecnoflon® FKMPFR FFKM为O形圈和密封件提供了先进的材料解决方案。另外,索尔维的Ketaspire® PEEK也非常适合蚀刻工具中的结构部件,而Torlon® PAI则是等离子室内部部件的首选聚合物。

3

蚀刻气体材料

蚀刻气体溶液必须表现出高介电强度化学惰性

索尔维的六氟化硫(SF6)在半导体器件中用作蚀刻气体,可清除半导体部件中的污染物以确保高效运行。Solvaclean®Sifren® 46为清洁材料提供了环保解决方案,而氟/氮 (F2/N2) 混合物可对干燥蚀刻过程中使用的工具进行高级清洁。

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Fomblin® PFPE

(全氟聚醚)

半导体工艺的等离子处理需要在真空条件下进行,真空泵的操作需要全天候24小时持续进行,而Fomblin® PFPE氟化润滑剂非常适合腐蚀性化学环境和高温环境的应用,具有良好的润滑性、优异的耐化学性、惰性、出色的耐辐射性和水洗性能,可保持润滑性至150℃(真空泵温度至300℃),可以让真空泵在高温下仍保持精确运行。这些出色的性能使Fomblin® PFPE成为干法蚀刻工艺真空泵润滑剂的首选。

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Galden® HT PFPE

在半导体工业中,进行CVD、蚀刻、离子注入等工序时,离子室的温度需要被精确管理。

Galden® HT PFPE作为一种惰性、高性能导热液,沸点介于55-270℃之间,在等离子操作过程中具有卓越的传热性能;结合了优异的化学稳定性和介电强度,可以承受很多侵蚀性条件。同时,Galden®导热液也可以在适中的温度下代替高蒸发率的导热液,从而降低蒸发损耗

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“蚀刻双子星,工艺真是行!”

为“蚀刻双子星”打call的同时

敬请期待下一个半导体明星的登场!

文章关键词:#半导体 #湿法蚀刻 #干法蚀刻 #蚀刻工艺

原文始发于微信公众号(索尔维Solvay):索尔维半导体“全明星”就位第二弹!“蚀刻双子星”全记录

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作者 gan, lanjie