分类: 光刻胶

光刻胶/光阻/光致抗蚀剂主要由感光剂(光引发剂)、聚合剂(感光树脂)、溶剂与助剂构成。原理是利用光化学反应,经光刻工艺将所需要的微细图形转移到加工衬底上,来达到在晶圆上刻蚀出所需图形的目的。