艾邦半导体网
半导体产业资源汇总
光刻胶/光阻/光致抗蚀剂主要由感光剂(光引发剂)、聚合剂(感光树脂)、溶剂与助剂构成。原理是利用光化学反应，经光刻工艺将所需要的微细图形转移到加工衬底上，来达到在晶圆上刻蚀出所需图形的目的。
近日，半导体领域来了一则激动人心的消息：哈尔滨工业大学（简称…
2024年12月26日，厦门恒坤新材料科技股份有限公司上交所…
12月9日，鼎龙股份发布公告称，湖北鼎龙控股股份有限公司（以…
2024 年 10 月 4 日，杜邦公司 (DuPont) …
光刻胶的国产替代需求日益旺盛，由于其作为复杂的配方型产品，对…
为什么会出现光刻胶条纹？ 光刻胶条纹的出现最根本原因是胶面的…
5月20日，位于千灯镇的艾森股份集成电路新材料项目签约，预计…
5月22日，贺利氏电化（上海）有限公司“电子化学品新建项目”…
· 5月20日，位于千灯镇的艾森股份集成电路新材料项目签约，…
3月26日上午 威迈芯材（合肥）半导体有限公司 年产100吨…
Chinese 
English