刻蚀环,也叫聚焦环(Focus Ring),是芯片制造领域的关键耗材。在半导体刻蚀过程中,常用刻蚀环来辅助刻蚀晶圆,刻蚀环能使晶圆表面被均匀的刻蚀,并且使晶圆的边缘同样被均匀的刻蚀。传统的刻蚀环由硅或石英制成,随着集成电路微型化推进,集成电路制造对于刻蚀工艺的需求量、重要性不断增加,刻蚀用等离子体功率、能量持续提高,尤其是电容耦合(CCP)等离子体刻蚀设备中所需等离子体能量更高,因此碳化硅(SiC)材料制备的刻蚀环使用率越来越高。

SiC刻蚀环对纯度要求极高,当前主流的制备技术为化学气相沉积技术(Chemical Vapor Deposition,CVD),即利用前驱体在高温下热解反应出C/Si原子并在衬底上沉积得到碳化硅材料,然后根据具体使用条件,将呈一定形状的碳化硅进行机械加工生成刻蚀环。CVD碳化硅刻蚀常见的衬底为高纯石墨材料。

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1CVD碳化硅刻蚀环生产工艺流程 

1)衬底安装

根据产品尺寸需求,准备好石墨衬底材料因为产品是在石墨衬底上生长而得,故石墨衬底尺寸决定产品的尺寸,将石墨衬底在碳化硅生长炉腔体内部进行稳固安装,安装完成后关闭生长炉腔体。

(2)抽真空

沉积工艺开始前,使用真空泵将碳化硅生长炉腔体内抽至真空。

(3)升温前吹扫

达到一定真空度,为了确保认腔体内气氛稳定,保证工艺稳定,CVD设备升温前需要采用一甲基三氯硅烷和氢气进行吹扫。

(4)升温

通入氢气作为保护气,开始对腔体内部进行加热至工艺需求温度(约1300~1500℃)。

(5)化学气相沉积

待升温至工艺需求温度后,对腔体内注入一甲基三氯硅烷(CH3SiCl3MTS),一甲基三氯硅烷(CH3SiCl3)在高温下会分解为碳/硅原子并在石墨衬底上沉积形成碳化硅(SiC)材料主要的化学反应如下:

在沉积过程中,掺入N2以获取不同电阻的产品。气相沉积结束后设备内部采用氮气吹扫,将剩余腔体内的尾气排入尾气处理装置。

(6)降温

沉积工艺完成后,关闭加热器电源并缓慢冲入 N2实现腔体内部降温至80℃以下,得到碳化硅原材料。

(7)CNC 预加工

使用 CNC 加工设备和刀具,对 CVD 形成的粗糙表面进行加工,露出芯料的光滑表面,为后续加工做准备。

(8)内外径加工

使用磨床对工件内径外径进行磨削,露出工艺载体石墨,并且内径外径到达设定的尺寸。

(9)切割

使用车床与切槽刀具,切割石墨部分,将两边碳化硅环分离。

(10)表面处理

利用磨床进行平面磨削,对材料表面进行预处理,处理切割过程中留石墨层

(11)表面粗磨

利用磨床进行平面磨削,缩小片与片之间的厚度差,使同一部件各处厚度均匀,达到一定的平整度,便于下道工序精密加工。

(12)CNC 精密加工

使用 CNC 加工中心设备,按照图纸要求,进行内径,外径,平面和台阶等部位的精加工。

(13)表面精磨

利用研磨机进行精磨,除去精密加工后的刀纹路缩小片与片之间的厚度差,使同一部件各处厚度均匀,达到一定的平整度,因产品表面Ra 值的要求不同,可通过不同型号砂轮处理表面的 Ra 值。

(14)精磨后清洗

工件成型加工后需要使用超声波清洗机清洗工件单晶碳化硅环。

(15)预清洗

由于前道工序加工后表面残留有较多的杂质,且加工环境为非无尘室,使得加工好的碳化硅环成品需要使用湿法清洗对其表面进行预清洗,以去除表面颗粒、金属、氧化物等杂质。

(16)热处理

为保证电阻率的均匀性,需要在特定温度范围内保持指定时间后淬火。

(17)最终清洗

加工好的碳化硅环进入 RCA 全自动清洗机进行最终清洗

(18)性能检测

得到的碳化硅环采用检测设备进行外观、性能检测。

(19)包装入库

2、CVD碳化硅刻蚀环主要生产材料及设备

(1)主要材料

石墨衬底一甲基三氯硅烷金刚石线切削液、冷却液、研磨液、砂轮、清洗剂等

(2)主要设备

CVD 化学气相沉积设备磨床切割设备、CNC 加工中心研磨机激光打标机超声波清洗机热处理设备清洗设备、检测设备等
8月26日,山东国晶新材料 研发总监 王之腾将出席2026年半导体陶瓷产业论坛并作《碳化硅陶瓷在半导体制程中的应用》主题报告分享,欢迎莅临交流,地址:深圳国际会展中心7号馆。艾邦建有半导体陶瓷产业微信群,长按识别下方二维码即可加入:
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推荐活动:【议题更新】2026年半导体陶瓷产业论坛(8月26日·深圳)

2026年半导体陶瓷产业论坛

The Semiconductor Ceramics Industry Forum

2026年8月26日
深圳国际会展中心7号馆

序号

暂定议题

演讲嘉宾

1

半导体设备中的陶瓷材料和部件

清华大学 教授 潘伟

2

静电卡盘及其关键材料技术(待定)

东南大学 应国兵 教授

3

氮化铝陶瓷加热器的研发及其在 CVD 中的应用

广东精瓷  高级副总裁  於定新

4

碳化硅陶瓷在半导体制程中的应用

山东国晶新材料 研发总监  王之腾

5

致密高强高弹性模量超低膨胀堇青石陶瓷的研究

华南理工大学材料学院教授  博士生导师 饶平根

6

低温中压等离子体射流技术赋能自蔓延氮化硅粉体合成及应用

山东中临半导体 董事长 刘红亮

7

静电卡盘精密制造与AI智能检测全产线开发

苏州大学 (高级工程师、苏州高级技术经理人导师)吴刚祥

8

大尺寸 + 高精度:新东先进陶瓷“3D打印+超精密加工”打通半导体陶瓷产业化

新东先进陶瓷中国区 业务开发经理 聂品旭

9

待定

淄博科浩热能

10

更多议题征集中……

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作者 808, ab