摘要

随着封装工艺的进步,扇出型板级封装(FOPLP)工艺因其具有高集成度、低成本、更好的性能和更广泛的应用领域等优势而备受关注。针对基于FOPLP工艺封装的多I/O芯片产品可靠性开展了系统研究。探索和分析了产品在偏压高加速温湿度应力测试(BHAST)中的漏电问题,根据失效分析结果,将重点聚焦于爬胶高度和产品应力。同时,通过试验设计(DOE)验证了改善产品的银胶量和固定加工参数。针对多I/O芯片应力问题,采用仿真模拟优化应力分布,产品成功通过 BHAST可靠性测试,满足130℃、85% RH条件下连续工作 264h的BHAST可靠性要求,对提升多I/O类产品整体性能和市场竞争力具有重要意义。

0 引言

近年来,随着5G通信、雷达、物联网以及AI等技术的快速发展,电子产品正朝着高集成度、小型化、便捷式的方向发展。这一趋势推动了多种封装方法的创新,实现了多芯片或元器件的统一封装,从而获得更优异的性能。其中,扇出型板级封装(FOPLP)作为当前微电子领域的先进封装技术之一,凭借其低成本、高集成度和卓越的材料利用率等优势,受到了广泛关注。
由于多I/O芯片的引脚数量多,目前主要采用打线(WB)技术实现芯片封装,然而该技术存在生产效率低和载流能力不足的缺点。相比之下,FOPLP工艺作为一种新兴的可扩展先进功率器件封装技术,摒弃了传统的WB和Cu Clip焊接工艺,转而采用电镀铜互连技术,该工艺利用多孔结构实现散热与导通,使得芯片顶层能够有效散热,并具备低电阻、低寄生电容及电感等优点。此外,FOPLP的单板尺寸可以达到 500mmx400mm,相较于传统的WB技术,单板可制造的器件数量更多,因此生产效率显著提高。
功率器件在系统中扮演着至关重要的角色,其故障或失效可能会对系统的稳定性和可靠性造成严重影响,甚至导致系统无法正常运行。因此,有必要通过可靠性测试来评估功率器件在不同温度、湿度和工作状态下的稳定性,发现产品在设计、制造、使用过程中可能出现的问题和缺陷。本文以采用FOPLP的多I/O功率芯片产品为例,介绍了多I/O芯片产品的封装结构及流程,针对产品的可靠性失效问题开展了失效分析,利用仿真模拟分析了产品的热应力分布情况,并提出改善策略。
1 产品结构及可靠性研究
1.1 封装结构及流程
在FOPLP平台上采用芯片面向上(Face up)封装路线,主要工艺流程如图1所示。使用银胶将芯片以正面朝上的方式贴合在铜框架上,采用塑封技术以保护芯片免受外界冲击,然后对I/O接口进行激光开孔,露出I/O接口并清理多余的塑封料。通过电镀沉积铜,在绝缘的塑封料上形成导电层,确保电路间的连接在导电层上覆盖干膜,经过曝光、显影、蚀刻等步骤制作出线路层,并完成线路的重布线层(RDL)。随后,可继续通过激光开孔、电镀沉积铜、曝光、显影、蚀刻等步骤向外扇出,以制作出焊盘层。最后,将成品基板切割成单独的封装体。
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图1 FOPLP工艺流程
切割分离后的产品尺寸为2mmx3mm,其结构由上到下依次为L1层铜、半固化片、L2层铜、环氧塑封料和铜框架。该产品采用Face up封装工艺将芯片贴装在铜框架上。通过RDL扇出芯片I/O接口,实现多I/O芯片的封装。芯片背面通过高导热性能银胶实现了与铜框架的紧密接触,有效提升了芯片散热能力。与采用WB技术互连的传统结构相比,这种利用铜柱互连的方式降低了产品的寄生电阻,进而提升了产品性能。
1.2 产品可靠性测试
可靠性通常是指芯片封装组件在特定使用环境下以及一定时间内的损坏概率,器件产品的可靠性直接关系着终端产品的质量表现,因此需要全面暴露和检测器件产品的各种潜在缺陷。通过实施加速试验使其在短期内的退化达到长期累积的结果,以便深入研究产品稳定性。
对多I/O芯片产品进行偏压高加速温湿度应力测试(BHAST),根据产品的符合性要求判断产品失效的不良表现,可靠性测试结果如表1所示。
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在130℃、85% RH的条件下,对测试 96h后的样品进行电性能测试,发现存在失效样品。BHAST电性能测试结果如表2所示,通过深入分析电性能测试结果,发现2个样品的失效主要源于各网络间存在漏电现象,针对漏电问题进行进一步的可靠性失效分析。
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1.3 可靠性失效分析
针对产品的BHAST漏电失效进行失效分析,以便深入理解产品失效机制,从而准确评估产品可靠性。
失效样品外观如图2(a)(b)所示,未发现诸如裂纹、分层等常见的物理损伤现象。采用X-ray无损检测技术对样品进行内部结构分析,结果如图2(c)(d)所示。通过对比合格样品与失效样品,发现失效样品的内部线路布局未出现任何明显的异常或差异。因此无论外观或是内部结构,失效样品与正常样品相比并不存在显著的差异或异常现象,这为后续的失效机理探讨和可靠性提升提供了重要的参考依据。
通过对电性能测试结果进行深人分析,发现2个样品的失效主要源于偏置(BIAS)与GND网络间存在漏电问题。为了精确定位漏电位置,参考芯片RDL的设计图纸,确定BIAS与GND网络间可能发生漏电的位置,图3(a)为芯片I/O接口设计图。按照图示方向对样品进行切片分析,详细观察产品各层之间的状况失效样品切片如图3(b)所示。分析结果表明,少量银胶通过侧壁迁移到芯片表面。为了验证芯片表面银胶的存在,对芯片表面进行元素分析,结果如图(3)所示,芯片表面存在银元素,进一步证明了银迁移反应的存在。

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图2 测试样品外观及X-ray图

采用扫描电子显微镜(SEM)分析放大切片图,可以清晰地看到失效芯片钝化层上出现了大量裂纹,如图3(d)所示,情况严重时甚至出现了铝层短路造成的钝化层破裂和孔洞,如图3(e)所示。通过BHAST的样品钝化层上也同样存在裂纹,图3(f)为正常样品的SEM图。结合失效机理和切片研磨图分析,可以得出在点胶过程中产品的爬胶过高,导致在可靠性测试过程中金属银迁移到芯片绝缘区,最终造成产品失效。关于这些裂纹的成因,初步推测是由于芯片在封装过程中受到应力影响,造成芯片钝化层出现裂缝:随后,在BHAST带电测试的环境下,破裂的钝化层覆盖下的网络区域发生了铝层的电化学迁移,这一连串的反应最终导致了产品的失效。
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图3 失效样品分析结果

2 可靠性优化

2.1 爬胶高度改善

根据失效分析结果,首先需要控制产品贴片过程中的点胶量,以降低爬胶高度。针对爬胶高度进行系列DOE验证,通过固定设备参数来控制银胶的爬胶高度。主要研究了点胶力度、时间和高度3个因素,评估了芯片背面银胶厚度、覆盖率、爬胶高度和溢胶范围,结果如表3所示。

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当点胶力度为低、时间为10ms、高度为10μm 时(B1 组),芯片爬胶情况如图4(a)所示,爬胶高度太低且背面存在银胶孔洞,不符合要求。当点胶力度为高、时间为200ms、高度为100μm 时(B3组),芯片爬胶情况如图4(c)所示,爬胶高度偏高。因此,选择点胶力度为中、时间为100ms、高度为50μm 的参数(B2)组,该条件下爬胶高度如图4(b)所示,爬胶高度得到了明显的控制。计算各条件下工序的制程能力指数(Cpk),结果分别如图4(d)(e)(f)所示,B1组的银胶量较少,大量样品没有形成爬胶,因此其Cpk较小,不具备参考价值。通过计算得到B2、B3组的Cpk分别为 1.42和0.49,进一步证明了B2组装片工序能够满足产品加工需求。通过DOE固定了加工参数,成功控制了加工过程中的产品银胶量,避免了银迁移现象的发生。

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图4 采用DOE验证爬胶高度的SEM图及Cpk结果

2.2 应力分布优化

应力是物理学中的一个重要概念,指的是物体在受到外力、湿度变化、温度场变化等因素的影响而发生变形时,在物体内各部分之间产生的相互作用的内力。这种内力存在的目的是为了抵抗外因作用,并试图使物体从变形后的状态恢复到变形前的状态。为了在生产加工前评估优化策略的可行性,课题组开展了有限元应力仿真,该方法将连续体转化为由有限数量单元组成的离散模型,利用位移函数对离散模型进行数值求解。该方法灵活性强,适用范围广,因此被广泛应用于焊接热传导、焊接热弹塑性应力、焊接变形预测和焊接结构的断裂分析等领域。本次有限元仿真采用导入几何模型的方式建模。分别构建了芯片、银胶、塑封层、线路层和载板的模型,将独立模型组合成装配体,即为产品实体结构模型,产品仿真模型如图5(a)所示。为了模拟产品焊接在基板上进行可靠性测试的实际焊接条件,设置相应的边界条件,模拟将产品焊接在基板上,应力仿真模型如图5(b)所示。模拟产品在锡膏固化条件下的温度变化过程,设置温度变化条件为25~220℃,探究产品在温度变化条件下的应力情况。

针对BHAST失效分析中的产品钝化层裂纹问题,初步仿真了产品的应力分布及应力大小,RDL、Die平面应力仿真如图5(c)所示,产品RDL 盲孔到芯片面具有较大的法向应力,其数值为198.9MPa。产品盲孔集中区域(红圈部分)应力分布较大,并且此区域与产品BHAST失效分析所确定的区域相吻合。通常由于多I/O芯片表面钻孔数量较多且孔的集中程度高应力分布不均是其封装过程中的常见问题之一。

根据热应力仿真结果对产品结构进行了优化,以改善产品的应力分布,具体措施包括:1)加厚线路层与焊盘层间的半固化片,有效阻隔了应力传递;2)将线路布局由直线型优化为弯曲型,设计如图5(d)(e)所示,大幅减少了内部应力沿线路的传导;3)对芯片应力集中区域的盲孔进行外扩处理,进一步降低了整体应力分布。优化后RDL,Die平面应力仿真结果如图5(f)所示,RDL盲孔到芯片面的法向应力为 45.8MPa,相比原版本的法向应力有了显著的改善。并且芯片中心盲孔集中区域的应力分布也得到了优化,充分证明优化方案具备减弱产品应力的能力。

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图5 有限元仿真模型

在随后的可靠性试验中,优化后产品顺利通过所有的测试项目,满足BHAST 264h(130°C,85%RH)的可靠性要求,并且在该条件下保持528h 后电性能依然符合要求,其性能指标远超既定标准,电性能测试结果如表4所示。

化后芯片钝化层的SEM图,在芯片钝化层上未发现裂纹等现象。这一优化方案的实施,不仅彻底解决了多I/O芯片产品的应力问题,并为应力改善积累了改善方案与加工检验方法。这一系列成果充分证明了采用FOPLP技术的多I/O产品器件在性能指标及长期可靠性方面的显著优势。

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3 结论

本文以采用FOPLP技术的多I/O芯片产品为研究对象,详细介绍了其封装结构及加工流程,同时针对封装产品进行了可靠性测试和失效分析,通过优化贴片过程中的银胶高度控制,避免了银迁移现象发生。基于可靠性研究及应力仿真,证明了加厚产品线路层与焊盘层间的半固化片、采用线路弯曲设计和优化盲孔位置均有利于优化多I/O芯片封装的应力分布,有效解决了产品应力问题。优化后的产品成功通过了BHAST可靠性项目,为多I/O芯片的FOPLP可靠性提供了生产经验和技术参考。

来源:《电子与封装》2025年2月刊封面文章

https://mp.weixin.qq.com/s/vjWtNtAEnderWkIsPq6Iaw,仅供参考,侵删

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