自 2022 年 7 月以来,德国微电子研究工厂 (FMD) 和英特尔(Intel)一直在合作支持和推动德国的 3D 异构集成研发。在FMD和英特尔欧洲研究院组织的一系列技术研讨会上,来自FMD、英特尔和德国行业的专家定义了2030+的3D异构集成研究路线图。 已经确定了汽车、工业和高性能计算等主要应用领域的挑战和机遇,为这些至关重要领域的联合研究项目奠定了基础。这是Fraunhofer与英特尔建立战略研究合作伙伴关系的一部分,旨在增强德国和欧洲的异构3D集成能力,这也是英特尔欧洲研究院参与欧洲研发生态系统的一个关键主题。

最近,半导体行业已转向 2.5D 和 3D 封装,以获得单位面积和/或体积更多的计算和内存,同时小芯片生态系统正在不断发展,异构集成正在不断发展,以实现封装中增加的功能,同时具有高性能,并最大限度地减少面积、成本和复杂性。预计在未来十年,3D异构集成将能够以经济高效的方式将计算、存储、连接、人工智能和传感等许多重要功能共同集成在同一芯片中,并具有近乎单片的性能和高可靠性。为了使这一目标成为现实,重要的是为各个行业(例如汽车、数据中心、工业自动化、通信、航空航天和国防)定义 2030+ 3D 异构集成路线图,并推动研究项目克服挑战并带来创新以推动该领域的发展。

 

为了支持德国和欧洲的 3D 异构集成研发,FMD 正在与英特尔合作,确定挑战和机遇,并制定 2030 年以后的研发路线图,启动和推动研究计划,以实现并最大限度地发挥 3D 异构集成在涵盖广泛应用的各个行业的潜力。邀请了整个价值链上的德国和欧洲行业合作伙伴,从材料、工艺设备到芯片设计、组装、印刷电路板,再到完整的集成商,参与解决差距、挑战和机遇。在过去 12 个月中,FMD 和英特尔欧洲研究院组织了一系列技术研讨会,许多德国公司参与其中,以确定 2030+ 路线图需要解决和开展的基本方面和组成部分。

先进封装设备类似前道晶圆制造设备,供应商受益先进封测产业增长。随着先进封装的发展,Bumping(凸块)、Flip(倒装) 、TSV 和 RDL(重布线)等新的连接形式所需要用到的设备也越先进。以长球凸点为例,主要的工艺流程为预清洗、UBM、淀积、光刻、焊料 电镀、去胶、刻蚀、清洗、检测等,因此所需要的设备包括清洗机、PVD 设备、光刻机、 刻蚀机、电镀设备、清洗机等,材料需要包括光刻胶、显影剂、刻蚀液、清洗液等。为促进行业发展,互通有无,欢迎芯片设计、晶圆制造、装备、材料等产业链上下游加入艾邦半导体先进封装产业链交流群。

作者 gan, lanjie