GORE臭氧化模组助力半导体产业工艺优化和革新

随着5G和智能汽车等高新技术的快速发展，半导体产业已成为我国重点发展的产业之一。在不断发展迭代的进程中，半导体、微电子制程不仅面临着工艺和技术革新的挑战，也面临节能环保的高要求。

传统的半导体制程工艺中大量使用化学混合物进行硅片清洗和半导体清洗，这显然已不符合当下半导体行业的发展趋势。

对半导体、微电子制造商而言

其核心需求为

减少使用非环保且废物处理成本高的传统化学品

在室温下能够进行清洗工艺，安全节能地去除有机物和进行硅晶圆表面处理

使用更洁净的清洗技术提升产量和良率

使用化学品进行半导体清洗不仅会造成环境污染，残留的化学有机污物也会对产品质量产生影响。而洁净的臭氧水不仅可以减少废物处理降低成本，还能确保去除硅晶圆和平板显示器上的有机污物，帮助提高半导体产品的产量和良率。而在臭氧水处理工艺的探索与创新上，戈尔更是深耕已久。

自20世纪80年代以来，GORE臭氧化模组已成功应用于臭氧水晶圆清洗工具，实现硅晶圆和半导体的可靠清洗。该臭氧化模组使用去离子臭氧水，比常用的刺激性化学品更安全、更有效，而且节能环保。

迄今为止，GORE臭氧化模组已拥有超过40年的应用验证，性能稳定可靠。其生成的更洁净、无气泡且浓度更高的臭氧水，在清洗硅晶圆、半导体和平板显示器等工艺方面有着出色的性能表现，使生产过程更加节能环保，并提高生产安全、改善工艺性能、降低运营成本。

将GORE臭氧化模组与机械混合技术进行比较，可以更好地了解我们产品的优势。

正是凭借这样的卓越特性，GORE臭氧化模组已广泛应用于微电子产业先进半导体制造工艺中的臭氧水制备和臭氧清洗工艺，如：硅晶圆清洗和生产、逻辑芯片和存储芯片制造、LED/OLED/QOLED (LTPS)平板显示器清洗和制造、光掩膜等，实现极佳的环保与成本效益。

戈尔持续致力于保护环境，在践行“Together, improving life”（你我携手，更美生活）的承诺下，帮助合作伙伴产生良好的经济效益，为社会的可持续发展作出积极贡献。面对半导体行业广阔的发展前景，GORE臭氧化模组凭借更高洁净度、出色的可靠性和稳定性，助力行业打造节能环保可持续发展的“芯”未来。