盛美上海获全球多个头部客户先进封装设备订单

晶圆级、面板级先进封装设备平台拓展至全球核心市场

盛美半导体设备(上海)股份有限公司(科创板688082,简称“盛美上海”)今日宣布,公司已斩获来自全球多家头部半导体及科技企业的先进封装设备订单。本次订单涵盖:

• 来自新加坡某全球领先封测服务(OSAT)企业的多台晶圆级先进封装系列电镀设备和湿法设备,计划于2026年第一季度交付;

• 来自中国大陆外某全球头部半导体封装厂商的一台面板级先进封装负压清洗设备,同样计划于2026年第一季度交付;

• 来自北美某头部科技企业的多台晶圆级先进封装系列湿法设备,计划于今年晚些时候交付。

本次全球晶圆级和面板级先进封装设备订单与海外多区域、多品类设备订单的落地,是盛美上海产品平台化、客户全球化战略的重要里程碑,也体现出行业对公司在晶圆级与面板级应用领域独具优势的技术组合的高度认可。

盛美上海总经理王坚表示:

“全球市场订单的集中落地进一步巩固了盛美在晶圆级先进封装设备市场的地位,也体现了公司差异化技术持续向新的面板级先进封装延展的趋势。我们将持续投入差异化技术创新,满足客户精益求精的制程与良率要求,以更完善的设备矩阵与全球化服务能力,支撑客户先进封装量产升级。”

随着半导体芯片复杂度不断提升,行业正加速投入具备可扩展性、高性能的制造解决方案,以支撑人工智能(AI)、高性能计算(HPC)及数据中心等应用需求。面板级封装在上述领域正展现出重要战略价值。

盛美上海此次获得的晶圆级先进封装系列设备订单涵盖了涂胶、显影、湿法刻蚀、去胶、清洗及电镀等多种解决方案设备,广泛应用于先进封装制程环节,充分表明盛美上海的工艺技术在国际市场关键制造工序中的应用持续深化。

▲Ultra C vac-p面板级负压清洗设备

此次获得的面板级先进封装设备订单,产品为盛美自主研发的Ultra C vac-p面板级负压清洗设备(全球专利申请保护中),专为应对先进扇出型面板级封装(FOPLP)及精细间距互联所带来的严苛制程需求而设计。该设备通过真空环境下的药液渗透能力,提升杂质清洗效率与制程均匀性,保障复杂2.5D与3D集成方案的良率与可靠性。该设备支持310x310毫米,510×515毫米、600×600毫米等大小尺寸面板规格,可满足下一代器件架构的规模化量产需求。

关于盛美上海

盛美坚持“客户全球化”战略,在服务好国内客户之外,同时积极开拓国际市场,客户遍布美国、韩国、中国台湾和东南亚市场。始终坚持“技术差异化”和“产品平台化”战略,成功布局了七大板块产品,分别是清洗设备、电镀设备、先进封装湿法设备、立式炉管设备、涂胶显影设备、PECVD设备和面板级封装设备,可覆盖市场约200亿美元。作为清洗和电镀设备的龙头企业,盛美清洗设备已经覆盖了95%工艺步骤应用,电镀设备实现技术全覆盖,所有产品都具有自主知识产权,拥有多项原创技术,例如SAPS及TEBO两代兆声波清洗技术和Tahoe单片槽式组合清洗技术全球领先,多阳极电镀技术达到国际先进水平。此外,面板级封装是AI芯片未来发展的必由之路,盛美已经率先推出了面板级水平式电镀、负压清洗、边缘刻蚀设备,期待这三款设备将共同推动具有高精度特性的大型面板先进封装行业进步以及扇出型面板级封装技术市场发展。

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先进封装设备类似前道晶圆制造设备,供应商受益先进封测产业增长。随着先进封装的发展,Bumping(凸块)、Flip(倒装) 、TSV 和 RDL(重布线)等新的连接形式所需要用到的设备也越先进。以长球凸点为例,主要的工艺流程为预清洗、UBM、淀积、光刻、焊料 电镀、去胶、刻蚀、清洗、检测等,因此所需要的设备包括清洗机、PVD 设备、光刻机、 刻蚀机、电镀设备、清洗机等,材料需要包括光刻胶、显影剂、刻蚀液、清洗液等。为促进行业发展,互通有无,欢迎芯片设计、晶圆制造、装备、材料等产业链上下游加入艾邦半导体先进封装产业链交流群。

作者 808, ab