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融资动态:资本持续加码产业化进程

近日,研微半导体完成A轮首批数亿元人民币融资,由多家头部产业投资机构联合领投。研微自2022年10月成立至今,公司累计融资额近10亿元人民币,多家老股东连续多轮追加投资,彰显长期信心。
2025年4月,研微成功入选科技媒体铅笔道重磅发布的《2025 中国新晋未来独角兽榜单》,该榜单以 “估值超过 10 亿美元” 为独角兽核心门槛。目前,研微已获得多家产业机构的鼎力支持,这不仅为公司发展注入强劲动力,更充分体现了专业投资机构对研微长期发展前景的坚定信心。本轮资金将重点投ALD等高端薄膜沉积设备的核心技术迭代、产能扩张及下一代产品开发,进一步强化高端设备的国产替代能力。

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技术突破:核心设备国产化里程碑

金属ALD设备2024年11月研微交付首台300mm金属原子层沉积设备,技术上已达到国际领先水平,能够有效应对制程推进和线宽缩小所带来的电阻率上升问题,成功填补国内金属原子层沉积领域的空白,一举解决这一长期困扰行业发展的难题。

PEALD设备:2025年4月单月实现“双交付”:研微Auratus设备同期交付国内头部逻辑芯片企业及先进封装客户,历时18个月全面覆盖逻辑、存储、先进封装三个赛道,为半导体芯片制造提供完整的解决方案。

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关于研微半导体

研微半导体聚焦高端ALD、PECVD以及特色外延设备研发,生产具有自主知识产权且具备国际竞争力的产品,涵盖Thermal ALD、PEALD、SI EPI、SiC EPI 、PECVD等,核心团队由国际头部设备企业前资深专家领衔,研发人员硕博占比超60%,产品广泛应用于高端集成电路、功率器件、射频元件及先进封装领域。

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先进封装设备类似前道晶圆制造设备,供应商受益先进封测产业增长。随着先进封装的发展,Bumping(凸块)、Flip(倒装) 、TSV 和 RDL(重布线)等新的连接形式所需要用到的设备也越先进。以长球凸点为例,主要的工艺流程为预清洗、UBM、淀积、光刻、焊料 电镀、去胶、刻蚀、清洗、检测等,因此所需要的设备包括清洗机、PVD 设备、光刻机、 刻蚀机、电镀设备、清洗机等,材料需要包括光刻胶、显影剂、刻蚀液、清洗液等。为促进行业发展,互通有无,欢迎芯片设计、晶圆制造、装备、材料等产业链上下游加入艾邦半导体先进封装产业链交流群。

作者 808, ab