在我们生活中的某些时刻,我们可能曾不慎掉落过水杯,或是碰倒过一件玻璃吹制的小摆件,只能眼睁睁看着它们摔得粉碎。从小我们就知道玻璃质地易碎。然而,如果玻璃如此易碎,为何制造商还要采用玻璃芯基板呢?

这是个很好的问题,而且答案已然明确。

玻璃能够满足先进逻辑节点和先进封装所要求的、更为密集的互连线间距新规格——1.5µm及以下。其次,相较于有机基板,玻璃芯更适用于大尺寸封装(见图 1)。与半导体行业之外的人们可能的认知不同,玻璃基板相较于有机基板,具备更出色的机械强度。

就当前情况而言,有机基板在先进封装领域仍将具有一定的应用价值。但在不久的将来,玻璃基板可能会成为高性能应用的首选基板(见图 1)。

图 1:有机与玻璃芯基板发展路线图

玻璃通孔(TGV)是贯穿玻璃基板的关键垂直电气连接结构,其加工需要极高的精度。遗憾的是,每一个加工步骤都可能使工艺产生诸多潜在缺陷。尤其是裂纹问题,影响极大。在工艺初期出现的微小裂纹,有可能在后续制造过程中发展成为更大的、具有严重破坏性的缺陷,进而影响最终产品的性能与可靠性。

然而,这些挑战并非仅局限于裂纹。TGV 的位置精度对于确保玻璃基板正反两面之间可靠的电气连接至关重要。即使是极其细微的偏差,也可能引发信号完整性问题,甚至导致器件失效。此外,通孔的形状与尺寸也是需要重点关注的方面。因此,这些通孔的关键尺寸(CD)必须得到严格控制。TGV 的顶部、底部以及腰部直径之间的关系,决定了通孔的锥角和轮廓形状。如果侧壁过于陡峭或呈内凹状(底部更窄),就会影响电镀工艺,导致通孔金属填充不完全或出现空洞,进而影响最终器件的电气信号性能与可靠性。

随着玻璃芯基板的应用日益广泛,TGV 工艺正迅速发展,整个工艺过程中的工艺控制面临诸多挑战。合理的工艺控制涵盖多个方面,包括确保原材料裸玻璃的洁净度、确定玻璃的厚度均匀性,以及在从激光改性、化学蚀刻到金属填充的每一步工艺之后,对关键尺寸进行测量。对这些环节的精准把控,对于维持最终产品的质量完整性以及提高良品率至关重要。

在本篇文章,我们将深入探讨如何综合运用计量工具、检测工具以及软件分析技术,来助力 TGV 工艺的开发。具体内容将从裸玻璃的检测入手,接着探讨玻璃厚度的测量方法,最后聚焦于通孔关键尺寸的测量。

裸玻璃、玻璃厚度与关键尺寸在 TGV 制造工艺正式启动之前,确保玻璃面板无缺陷至关重要(见图 2)。毕竟,没有人希望在初始阶段就使用存在夹杂物缺陷或裂纹的面板。借助基于激光的扫描成像光学技术与传感技术,制造商能够可靠地检测裸玻璃上纳米级别的缺陷,如颗粒、划痕、凹坑以及污渍等。

图 2:带有 TGV 的玻璃面板

在开启 TGV 工艺之前,测量玻璃的厚度同样不可或缺。玻璃面板的厚度均匀性是关键因素。以一个极端情况为例:假设一块玻璃面板一端的厚度为 400 µm,而另一端为 300 µm。虽然这只是一个极端示例,但不难想象,这种厚度差异会对整个面板上的 TGV 高度产生影响,进而给采用该玻璃基板制造的任何器件的性能带来严重后果。

尽管在制造工艺开始前对玻璃进行检测以及测量玻璃厚度十分关键,但在整个 TGV 制造与金属化过程的多个特定工艺步骤中,关键尺寸测量与缺陷检测同样不容忽视。

在激光改性和蚀刻工艺完成后,制造商需要对通孔顶部、腰部以及底部的关键尺寸进行测量。借助高分辨率、高通量的光学面板检测与计量系统,可以对面板上每一个 TGV 的这些参数进行测量,从而实现对蚀刻工艺的精确监测。此外,能否准确检测出诸如蚀刻不完全、单个 TGV 上的微裂纹、多个 TGV 之间的较大裂纹,以及玻璃表面的凹坑和压痕等缺陷,对于工艺优化起着关键作用。

在金属化和平整化步骤中,检测系统能够持续监测诸如残留物、镀层过厚/过薄、抛光过度/不足以及表面粗糙度等缺陷,这些缺陷中的任何一种都可能影响整体的电气性能。

在一块面板上有数百万个 TGV,能够在短时间内分析大量检测和计量数据是一项重要的能力。使用良率管理软件可以缩短分析时间,识别系统性缺陷,并将工艺参数与良率结果相关联。
结论
采用玻璃芯的集成电路基板目前正处于可能带来显著市场增长的起点。据 Yole 的最佳情况预测,到 2030 年,玻璃芯基板的收入预计将增长至 2.75 亿美元。只要手头有合适的工具,制造商就能满足对玻璃芯基板不断增长的需求。
然而,充分发挥玻璃芯基板和通孔玻璃基板的全部潜力,不仅仅在于拥有工具,更在于协同运用这些工具来构建一个稳健、可重复且良率优化的工艺流程。随着玻璃作为基板的采用率不断上升,那些在工艺洞察方面进行全面投资的制造商将会脱颖而出。
来源:https://semiengineering.com/comprehensive-process-control-solutions-for-through-glass-vias/

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作者 808, ab